高速研磨分散機，在線式研磨分散機，66m/s研磨分散機,中試研磨分散機，進口研磨分散機，管線式研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機是在中試型膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，剪切細化能力要強于高剪切膠體磨。
      
CMSD2000/4中試型研磨分散設備是（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

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CMSD2000/4中試型研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

   
 中試型研磨分散設備的膠體磨頭有很高的線速度，以及特殊上深下淺的三級磨頭結構，一次處理即可滿足細化要求。***級刀頭形狀，可以把相對大塊的物料進行初步粉碎，以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。     磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結構，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產品一樣磨頭采用三級磨齒，但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

     
CMSD2000/4中試型研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在50DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到***低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMSD2000/4中試型研磨分散設備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送。
           
CMSD2000膠體磨標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼。 特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。

    
CMSD2000膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。CMD2000設計耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有： -動密封動靜環(huán)材質搭配（碳化硅，合金等） -靜態(tài)密封圈材質選型（是否有腐蝕性物料，酸堿度等） -磨頭定轉子材質（不銹鋼，碳化鎢鈷，三氧化二鋁等） -是否需要我司配置電控柜。

我司還研究了一款比CMXD2000更高速高效的66m/s研磨分散更好。

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